掌握專利迴避設計:製造業創新與避險的必修課
在競爭激烈的製造業市場中,創新是企業生存與發展的命脈。然而,在追求產品差異化與技術突破的同時,如何避免誤踩他人專利雷區,成為每位製造業者必須面對的重要課題。專利迴避設計(Patent Evasion Design)正是為了在不侵害他人專利權的前提下,開發出具有市場競爭力的產品所採取的策略。這不僅能保護您的企業免於昂貴的訴訟,更能確保您的創新成果合法落地。
本篇文章將以律點通的角度,為您深入解析專利迴避設計的法律基礎、核心判斷原則,並透過實際案例,提供具體可行的操作指引,助您在創新路上趨吉避凶。
專利侵權判斷的核心法則:知己知彼,百戰不殆
要成功進行專利迴避設計,首先必須理解專利侵權是如何被判斷的。台灣專利法明確規範了專利權的範圍與侵權責任。以下是幾個製造業者必須了解的關鍵法條與概念:
專利權範圍的界定
專利權的範圍,是判斷是否侵權的基礎。無論是發明專利還是新型專利,其權利範圍都以「申請專利範圍」為準,並可參考說明書及圖式來釐清用語意義。
《專利法》第58條第1項:「發明專利權範圍,以申請專利範圍為準,於解釋申請專利範圍時,並得審酌說明書及圖式。」
這表示,當您在分析競爭對手的專利時,應聚焦於其專利申請書中的「請求項」文字,並輔以說明書與圖式來理解其技術細節。迴避設計的目標,就是要在這個範圍之外找到創新的空間。
侵權的法律責任
一旦被認定侵害他人專利權,可能面臨嚴重的法律後果,包括損害賠償請求。
《專利法》第96條第2項:「發明專利權人對於因故意或過失侵害其專利權者,得請求損害賠償。」
這條文提醒我們,即使是「過失」也可能構成侵權並負擔賠償責任,因此事前進行專利迴避評估,是企業風險管理不可或缺的一環。此外,《民法》第184條第1項也規定了侵權行為的損害賠償責任,而《公司法》第23條第2項甚至可能讓公司負責人與公司負連帶賠償責任,不可不慎。
專利侵權判斷的兩大原則
法院在判斷專利侵權時,主要依循「全要件原則」,並區分兩種侵權形式:
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全要件原則 (All-Elements Rule):這是專利侵權判斷的核心。法院會將您的產品或方法,與系爭專利申請專利範圍中的每一個「技術特徵」逐一比對。只有當您的產品包含專利權利要求中所有的必要技術特徵時,才可能構成專利侵權。只要缺少其中任何一個必要特徵,通常就不構成「文義侵權」。
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文義侵權 (Literal Infringement):指您的產品或方法的所有技術特徵,在文字意義上與專利申請專利範圍中的所有技術特徵完全相同或直接對應。這是最直接的侵權形式。
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均等侵權 (Doctrine of Equivalents):即使您的產品未完全符合專利請求項的文字描述,但若其與專利在「技術手段 (Way)」、「功能 (Function)」及「所產生結果 (Result)」上實質相同,且兩者差異對於所屬技術領域中具有通常知識者而言,屬於不具實質性差異的置換,仍可能構成均等侵權。這旨在防止他人僅透過微小修改就規避專利。
設計專利的侵權判斷
對於產品外觀的「設計專利」,其侵權判斷標準與發明、新型專利不同,主要著重於視覺印象:
- 普通消費者觀點 (Ordinary Consumer's Viewpoint):判斷設計專利侵權時,應以「普通消費者」選購相關商品時的觀點,將系爭設計專利的整體內容與被控侵權產品的設計內容進行比對。
- 整體觀察、綜合判斷 (Overall Impression, Comprehensive Judgment):比對時會綜合考量所有設計特徵的異同,特別是那些「容易引起普通消費者注意的部位或特徵」,判斷兩者整體外觀是否相同或近似,是否會產生混淆的視覺印象。
實務案例解析:從別人的經驗學教訓
了解了法律概念,讓我們透過實際案例,看看這些原則如何在實務中應用,為您的迴避設計提供具體方向。
案例一:移除關鍵特徵,成功迴避文義侵權
想像一下,一家模具製造商「A公司」擁有一項新型專利,其模具的關鍵特徵之一是「下段呈由上而下的階梯狀方槽」以及「凸緣上設有穿孔」。另一家「B公司」開發了一款類似功能的模具,但在設計時,B公司仔細研究了A公司的專利,並將其模具的槽體設計成「平整光滑面,橫剖面呈圓弧線」,而非階梯狀。同時,B公司的模具凸緣上也沒有設置任何穿孔。
當A公司指控B公司侵權時,法院比對發現,B公司的產品確實欠缺A公司專利中「階梯狀方槽」和「穿孔」這兩個必要技術特徵。由於B公司的產品不符合專利請求項的所有必要特徵,因此不構成文義侵權,法院也未再進一步適用均等論。最終,B公司成功避免了侵權指控。
律點通小提示:這個案例告訴我們,最有效的迴避設計策略之一,就是移除或實質改變專利請求項中的至少一個「必要技術特徵」。只要能證明您的產品缺少專利中的一個關鍵環節,就能大大降低侵權風險。
案例二:改變外觀細節,避免設計專利侵權
另一家生產兒童遊樂設施的「C公司」開發了一款「平衡坡道」,其設計專利強調「左右兩側具有兩個不同長度及坡度的斜坡」。市場上,另一家「D公司」也推出了類似功能的平衡坡道。D公司在設計時特別注意,將其產品設計成「左右兩側坡道長度、斜度均相同」的拼裝式坡道,雖然功能類似,但外觀上與C公司的專利有明顯區別。
當C公司主張D公司侵犯其設計專利時,法院以「普通消費者」的視角進行判斷。法院認為,雖然兩者都是平衡坡道,但D公司產品「左右兩側坡道長度、斜度均相同」的特徵,與C公司專利強調的「不同長度及坡度」形狀特徵截然不同。整體外觀已具明顯區別,不會讓普通消費者產生混淆。因此,D公司不構成設計專利侵權。
律點通小提示:對於設計專利,迴避設計的重點在於改變產品的「整體視覺印象」,特別是那些容易引起消費者注意的「新穎特徵」。即使產品用途相同,只要外觀上有足夠的差異,就能有效避免侵權。
實務操作指引:製造業者如何進行專利迴避設計?
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透徹理解目標專利:
- 精確解釋申請專利範圍:仔細研讀競爭對手的專利申請範圍(Claims),這是判斷專利權範圍的基礎。同時,應參考專利說明書及圖式,以該技術領域的專業知識來正確理解各技術特徵的定義和限制。
- 區分必要與非必要技術特徵:識別哪些是專利權的核心、不可或缺的技術特徵,哪些是可選或可替代的。迴避設計應鎖定必要技術特徵進行修改。
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實施全要件原則下的迴避:
- 移除或實質改變至少一個必要技術特徵:這是最直接有效的策略。確保您的設計中至少有一個系爭專利請求項的必要技術特徵被完全移除,或被實質性地改變,使其在文義上不再符合。
- 避免均等侵權:在改變技術特徵時,不僅要避免文義上的相同,更要確保新的技術手段、功能或所產生結果與系爭專利存在「實質差異」,例如,改變技術手段、或使其功能、結果產生顯著不同。
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充分利用均等論的限制:
- 檢視專利申請歷史檔案 (Prosecution History):查閱目標專利的審查過程,包括申請人提交的意見陳述書、修正案等。若專利權人曾為獲准專利而限縮其權利範圍,或明確排除某些技術手段,則這些被排除的範圍即受「禁反言原則」限制,可作為迴避設計的空間。
- 進行先前技術檢索 (Prior Art Search):廣泛檢索與系爭專利相關的先前技術。若您的迴避設計所採用的技術手段,已為先前技術所揭露,或僅是先前技術與所屬技術領域中通常知識的簡單組合,則即使可能構成均等,亦可主張「先前技術阻卻」而不構成侵權。
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設計專利迴避策略:
- 著重整體視覺印象的差異:對於設計專利,迴避設計應著重於改變產品的「整體外觀」,使其在「普通消費者」的視覺印象中,與系爭設計專利產生明顯區別,不致混淆。這可能涉及改變產品的形狀、圖案、色彩組合、表面處理等。
結論:主動規劃,確保創新無虞
專利迴避設計並非投機取巧,而是一種深思熟慮的策略性創新。它要求製造業者不僅要專注於技術研發,更要具備法律意識,了解專利權的邊界。透過精確的專利分析、巧妙的技術調整,並善用法律賦予的限制原則,您的企業將能有效降低侵權風險,開拓屬於自己的藍海市場。主動進行專利迴避評估,是保護企業創新成果、避免法律糾紛、確保永續經營的關鍵一步。
常見問題快速解答
Q: 什麼是製造業者在進行專利迴避設計時最核心的考量?
A: 製造業者在進行專利迴避設計時,最核心的考量是「全要件原則」。這意味著您必須確保您的新產品或新方法,至少缺少目標專利申請專利範圍中一個「必要技術特徵」,或者對該特徵進行了「實質性」的改變,使其在文義上不再符合。同時,還要避免該改變被認定為「均等侵權」。
Q: 如何判斷我的設計修改是否足夠,可以避免均等侵權?
A: 要判斷設計修改是否能避免均等侵權,需要評估新的技術手段、功能和所產生結果與系爭專利是否仍「實質相同」。如果您的修改僅是微不足道的置換,功能和結果沒有實質差異,仍可能構成均等侵權。建議您深入分析專利說明書,找出該專利的「發明本質」或「核心貢獻」,並在迴避設計中避開這些核心要素,或提供顯著不同的技術方案。
Q: 專利申請歷史檔案對迴避設計有什麼幫助?
A: 專利申請歷史檔案(Prosecution History)記錄了專利從申請到核准的整個審查過程,包括申請人為了獲得專利而提交的所有意見陳述書、修正案等。這些檔案可以揭示專利權人是否曾為了取得專利而「限縮」了其權利範圍,或「有意識地排除」了某些技術手段。若能證明您的迴避設計所採用的技術,正是專利權人先前已放棄或排除的範圍,那麼即使可能構成均等,您也能依據「禁反言原則」成功抗辯不侵權。
Q: 設計專利的迴避設計和發明專利有何不同?
A: 設計專利保護的是產品的「外觀設計」,而非其技術功能。因此,設計專利的迴避設計重點在於改變產品的「整體視覺印象」,使其在「普通消費者」的眼中,與系爭設計專利產生明顯的區別,不致於混淆。這可能涉及改變產品的形狀、圖案、色彩組合、表面處理等。而發明專利則著重於技術特徵和功能原理的改變。
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